<div id="file_info_box"><div id="detail_info"><link type="text/css" rel="stylesheet" href="//i.incru.it/ui/static/css/people/view_temp.css"><div class="peopleview_temp peopleview_temp1"><div class="temp_header"><h1 class="h1">[삼성전자] 합격 자기소개서</h1><span class="state-icon">합격</span></div><div class="temp_header_util"><span class="key_text">전자·기계·기술·화학·연구개발</span> <span class="key_text">전자·반도체</span> <span class="key_text">공정엔지니어</span><br><span class="key_text">신입</span> <span class="key_text">2023년 /9월</span></div><div class="temp_contents"><div class="temp_box"><span class="temp_txt">1.삼성전자를 지원한 이유와 입사 후 회사에서 이루고 싶은 꿈을 기술하십시오. (700자)
‘회사와 나의 동반성장’이 저의 가장 큰 선택 기준이었습니다.
삼성전자는 인재 제일의 핵심 가치로 임직원의 도전을 존중해주며 열정이 있다면 MBA, 산학 연계 프로젝트와 같은 자기계발의 기회를 통해 전문성을 심화시킬 수 있습니다. Foundry가 매년 20%이상 성장하는 비결은 서로의 발전 가능성을 믿는 신뢰로부터 온다고 생각합니다.
이러한 신뢰를 바탕으로 제가 가진 반도체 열정을 더해 2nm 양산에 이바지하는 공정기술 엔지니어가 되기 위해 지원하게 되었습니다.
[E기술팀: profile개선 전문 엔지니어]
반도체 engineer가 되기 위해 ‘반도체 화학공학’ 과 ‘반도체 공정’ 수업을 통해 소자와 단위 공정의 기초를 다지고 5개의 NCS강의와 공정 실습 및 분석을 통해 지식을 심화시켰습니다. MOSFET의 I-V curve를 측정해보며 data를 통해 불량을 판단, parameter를 추출하고 공정별로 원인을 추정하고 개선 방안을 도출해보며 공정기술 엔지니어의 역량을 쌓았습니다.
입사 후 HARC etching에 요구되는 pulsed plasma를 사용한 공정의 parameter를 조절하여 clogging, bowing을 개선하고 ACI CD를 spec line에 넣어 수율 증가에 기여하고 싶습니다.
15년 후에는 지금의 저처럼 Etching공정 엔지니어를 꿈꾸는 인재들을 교육하며 함께 삼성전자를 이끌고 싶습니다.
2. 본인의 성장과정을 간략히 기술하되 현재의 자신에게 가장 큰 영향을 끼친 사건, 인물 등을 포함하여 기술하시기 바랍니다. (1500자)
[n년간 다져진 반도체 열정]
25년 동안 같은 회사에 다니신 아버지를 보며 자신이 좋아하고 성취감을 느끼는 일을 해야 한다는 것을 느꼈습니다. 이런 아버지의 영향으로 제가 잘 할 수 있고 좋아하는 반도체 분야를 선택하고 많은 노력을 기울이며 관련 역량을 쌓을 수 있었습니다.
대학교 3학년 때 삼성전자의 8대 공정 요약 영상을 접하고 호기심이 생겨 삼성전자 엔지니어에 관한 영상들도 찾아보았습니다. 유기적으로 연결된 복잡한 공정 과정들에 관심이 생기고 자연스럽게 이론을 설명해주는 영상들을 찾아보고 공정별 특징들을 노트에 정리하며 공정에 관해 공부하기 시작했습니다. 지금까지 대학교에서 배우던 내용들과는 다르게 지식을 얻을 때마다 즐거움을 느꼈습니다. 이런 즐거움과 열정은 3학년에 반도체 화학공학이라는 4학년의 전공 심화 과목을 당겨 수강하며 A+라는 학점을 취득할 수 있었습니다. 또한 신소재 공학과의 ‘반도체 공정 수업’, 반도체 소자 및 8대 공정에 관한 NCS 교육과 실습으로 반도체 소재, MOSFET의 동작 원리, 단위 공정별 주요 parameter에 대한 기반을 다질 수 있었습니다.
이를 통해 ‘즐거움에 기반한 열정’이 높은 성과의 기반이 될 수 있다는 것을 느낄 수 있었습니다.
현재도 반도체 엔지니어가 되기 위해 나노기술연구협의회의 ‘GOI 제조기술’ 교육을 수강하며 열정적인 자세로 달리고 있습니다. 이런 자세를 유지하며 입사 후에도 끊임없이 발전하는 삼성의 인재가 되도록 하겠습니다.
[연탄 봉사로 깨달은 협업의 성취감]
중학교 시절 영세 지역주민 가정을 위한 사랑의 연탄 나르기 봉사에 참여하였습니다. 필수 봉사 시간을 채우기 위해 신청했던 것이기에 연탄의 무거움만 상상하며 봉사 예정 날짜가 오지 않기를 바랐습니다.
그러나 연탄을 나르기 시작함과 동시에 이런 생각을 한 자신에게 부끄러움을 느꼈습니다. 약 100m 거리에 일정 간격으로 줄을 서서 각자 위치에서 연탄을 옆으로 전달하며, 누군가 힘이 빠지면 양옆의 사람들이 도와주며 몇백장의 연탄을 옮겼습니다. 비록 힘이 다 빠지고 손이 검게 물들었지만 모든 연탄을 나른 후 느꼈던 성취감과 처음 본 참여자들과의 유대감은 저에게 잊지 못할 순간이 되었습니다.
봉사를 통해 느낀 감정은 이후 대학교 팀 프로젝트에서 저의 원동력이 되었습니다. 혼자서는 불가능할 것 같은 증류탑 설계를 팀원들과 역할을 배분하고 최적화를 위해 나아가는 것이 힘들지만 즐겁기도 했습니다. 전공 지식에서 가진 저의 강점을 토대로 팀원들과 상호 보완하며 팀 프로젝트에 임한 전공 프로젝트 최우수 팀 달성을 하며 또 한 번 성취감을 얻을 수 있었습니다
Defect issue의 원인을 분석/개선함에 있어 설비 엔지니어와 타 부서 단위공정 엔지니어와의 협업은 불가피할 것입니다. 하지만 협업을 통해 낼 수 있는 시너지와 느낄 수 있는 성취감을 잘 알기에 제가 맡게 될 공정부서, Foundry 사업부의 일원으로서 공정 기술 엔지니어의 역할에 최선을 다하겠습니다.
3. 최근 사회이슈 중 중요하다고 생각되는 한가지를 선택하고 이에 관한 자신의 견해를 기술해 주시기 바랍니다. (1000자)
[MI 공정 고도화와 인공지능: 엔지니어의 역할]
4차 산업 혁명의 영향으로 업무의 효율화, 비용 절감을 위해 AI와 빅데이터를 활용한 AI 기반 공정들이 제조업 전반으로 퍼져나가고 있습니다.
실제로 배터리 3사는 해외 전진 기지를 설립하며 불안정한 수율에 노출되었지만, 검사 솔루션 부문에서 AI 기능이 탑재된 검사 장비를 활용하여 불량률을 크게 줄인 사례가 있으며 SK하이닉스는 가우스랩스의 가상계측을 도입하여 CAPEX를 감소시키는 방안을 추진하고 있습니다.
반도체 제조 공정의 생산성을 증가시키고 수율 확보하기 위해서는 제조 과정 중 신속하게 defect를 찾아내는 것이 핵심입니다. 미세화로 인한 셀 사이즈 감소로 소자의 물리적, 전기적 특성 목표를 각 단위 공정별 단계에서 충족되었는지 확인하는 MI 공정이 차지하는 비중이 지속적으로 증가하고 있습니다. 이에 따라 모든 MI 이미지를 일일이 대응하는 것은 많은 인력과 시간 소모를 야기하며 생산성을 저하시키는 원인이 되고 기업의 손해로 직결될 것입니다.
MI에서 AI를 활용한다면 생산성을 높일 수 있지만 현재로서 AI가 많은 양의 데이터를 학습하고 완벽하게 해석하는 것에는 한계가 존재한다고 생각합니다. 또한 완전한 무인화에 도달하기 위해서는 딥 러닝 개선으로 오차 범위를 줄여 나가야 하며 다양한 공정 Data를 확보하는 것이 중요하다고 생각합니다.
동일한 정보를 활용함에 있어 개개인의 차이가 발생하듯이 AI로 도출된 데이터를 처리함에 있어 엔지니어별로 편차가 발생하며 이를 잘 활용하지 못하면 인공지능을 사용하는 것이 무의미해질 것입니다.
이제는 AI로 추출한 데이터 활용 능력이 곧 경쟁력으로 전환되는 시대입니다. 엔지니어들은 AI 활용 능력을 기르기 위해 힘써야 한다고 생각합니다. 이것이 곧 미래 반도체 산업을 이끌어 갈 수 있는 키워드라고 생각합니다.
4. 지원한 직무 관련 본인이 갖고 있는 전문지식/경험(심화전공, 프로젝트, 논문, 공모전 등)을 작성하고, 이를 바탕으로 본인이 지원 직무에 적합한 사유를 구체적으로 서술해 주시기 바랍니다. (1000자)
생산 line에서 Defect issue를 가장 먼저 분석/대응하여 수율과 고객사와의 납품일자를 책임지는 것이 공정 기술 엔지니어의 존재 이유입니다. 이에 필요한 역량을 키우기 위해
[전기적 특성 분석 및 개선안 도출]
반도체 공정 기술 교육원에서 DC Analyzer(HP4145), LCR Meter(HP4284)를 활용하여 Vgs, Vds에 따른 MOSFET의 I-V curve를 측정하고 공정과 연관 지어 분석한 경험이 있습니다.
Wafer의 center와 edge를 측정하고 spec line에서 벗어난 Ids가 측정된 원인을 소자의 구조와 공정의 관계를 통해 분석하고 개선안을 발표했습니다. Ids의 수식을 통해 Gate, Gox 구조를 예측하고 단위 공정들의 parameter 조절로 불량률을 감소시킬 방안을 고민해보았습니다. Gas flow, Temp, Expose E, Time의 개선으로 lds를 정상범위 안에 들어오게 하는 방법을 발표하며 전기적 특성 data를 분석하여 공정을 개선하는 process에 대해 감을 잡을 수 있었습니다.
[Etch 심화 학습]
또한 8대 공정 중 Etch 공정에 대해 잘 이해하고 있습니다. ‘반도체 제조 기술의 이해’라는 책을 통해 Dry etch에 대해 깊게 공부하였습니다. Dry Etch는 plasma의 생성 제어를 통해 Radical과 Ion의 밀도를 조절하기에 Gas 유량, 압력, RF power 등 다양한 변수들이 존재합니다. 각 회로 패턴별로 Etch 되는 물질, A/R 이 다르므로 공정 설계에 따라 양산에 적합한 Gas 종의 배합과 Plasma density를 통해 공정을 최적화할 수 있습니다. 불량 발생 시 OCD로 CD, Depth, Height를 파악하고 parameter 과의 상관관계를 바탕으로 변수들을 조절해 결과를 예측하고 Interlock Holding에 신속히 대응하는 것은 공정 기술 엔지니어의 중요한 역량이라고 생각합니다.
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